绵阳梓冠调光开关

SIMOX技术是早的SOI晶圆制备技术之一，是利用离子注入技术把氧离子注入到硅中，形成氧化物隔离埋层，通过氧化物隔离埋层隔离衬底和顶层硅薄膜层。氧离子注入的能量为200keV，剂量为  ，氧离子会注入到硅晶圆表面下方；然后经由3~6小时的高温（1350℃）退火，硅晶圆里的氧离子和硅发生化学反应，在硅晶圆表面下方形成一层厚度小于240nm的二氧化硅绝缘层材料。而在此二氧化硅绝缘层的上方则会产生一层结晶层，它们就组成了硅薄层-二氧化硅绝缘层材料-硅衬底的SOI结构。
详情介绍：
高速光开关阵列的特点：本系列光开关产品为集成式低损耗，无阻断高速光开关阵列，可用于高速光切换，网络配置及光学包交换。

为了对短时间大视场一维光强信息进行采集,采用编码转换技术和自聚焦透镜矩形阵列设计了光开关,用小口径电光晶体实现了大视场的测量.采用MOS管级联的高压同步电路,使得系统具有结构紧凑、、寿命长等优点.实验结果表明:开关选通时间100±5 ns,前后沿小于25 ns,消光比1 100∶1

品名称：NxN速光开关
产品简介：
高速铌酸速光开光具有的开关速度（标准产品是10ns，速产品为<100ps），较低的插损（标准插损3.5dB，插损型号为2dB），高开关速率为亚纳秒，标准产品为10ns开关速率，产品也适合领域的微波通信用途。通道数可定制！

NxN可定制通道
提供差损类型，差损<3dB, <2dB可以定制。
可定制超小尺寸
它是一种光电探测器，仅对入射光产生的热量作出反应，并有效地用作温度计。